1200℃集成型自动小型PECVD系统

产品用途



PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。



PECVD系统配置；



1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉



2.等离子射频电源



3.多路质量流量控制系统



4.真空系统（单独购买）



产品特性;



电源范围广；温度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，性价比高，可实现快速升降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。



系统名称

 集成型PECVD系统

 1200℃小型PECVD系统

 

系统型号

 PE

 PECVD-12IH-4Z/G

 

控制方式

 液晶屏微PLC控制系统

 手动

 

高温度

 1200℃

 

加热区长度

 200mm

 

恒温区长度

 100mm

 

温区

 单温区

 

石英管管径

 Φ60mm

 Φ50mm

 

额定功率

 1.2Kw

 2Kw

 

额定电压

 220V

 

滑动方式及距离

 自动滑动;200mm

 手动滑动;200mm

 

温度控制

 30段程序控温

 50段程序控温

 

控制精度

 ±1℃

 

炉管高工作温度

 ＜1200℃

 

气路法兰

 采用多环密封技术卡箍快速连接

 

排风冷却装置

 的空气隔热技术，结合热感应技术，当炉体表面温升到50℃时，



排温风扇将自动启动，使炉体表面快速降温。

 

气体控制方式

 质量流量计（按键式）

 

气路数量

 2路（2-4路）

 4路（可根据具体需要选配气路数量）

 

流量范围

 0-500sccm(标准毫升/分，可选配）氮气标定

 

精度

 ±1%F.S

 

响应时间

 1sec

 

工作温度（流量计）

 20-120℃

 

工作压力

 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力）

 

进气方式

 采用防倒流设计

 

规格

 中真空（集成型请单独购买）

 

系统真空范围

 10Pa-100Pa

 

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天津中环电炉股份有限公司

黄女士

  

         

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